分析稱iPhone或將在2021年采用屏下指紋識別

　　近日，天風國際分析師郭明錤發布了一份最新報告，報告中指出iPhone可能會在2021年采用屏下指紋。

　　據郭明錤表示“蘋果曾經申請過屏下指紋相關專利，相信蘋果對手機采用屏下指紋仍有興趣”。預期蘋果將會在2021年推出同時配備Face ID與屏下指紋的新iPhone。

　　他表示，根據技術發展規律推測，屏下指紋4個關鍵技術(模塊厚度、感應面積、耗電與貼合良率)有望在未來12–18個月內顯著提升。

　　值得一提是，郭明錤還表示，蘋果的屏下指紋識別技術將會采用高通的大面積超聲波技術。